UV紫外（wài）線與光刻機的關（guān）係（xì）：光刻機為什麽要用到紫外（wài）線

光刻機是（shì）目前半（bàn）導體芯（xīn）片行業的核心設備（bèi），其技術含量（liàng）、價值含量極高。光刻機設備涉及到係（xì）統集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控（kòng）製等多項先進技術是半導體行業中技術含（hán）量最高的設備。

目前，世界上最先進的（de）光刻機是荷蘭ASML的（de）EUV光刻機。

有（yǒu）些朋（péng）友會問，UV紫外線與光刻機到底是什麽關係，在芯片製造中為何要要用到紫外線？下麵（miàn）由紫外線（xiàn）手（shǒu）電筒製造廠家TANK007為你介紹。

1、半導體芯片光（guāng）刻工藝原理

光刻的原理是在已（yǐ）經（jīng）切割好的晶（jīng）圓（通（tōng）常是多晶矽）上覆蓋一（yī）層具有高（gāo）度光敏感性光（guāng）刻（kè）膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透（tòu）過掩模照射（shè）在晶圓表（biǎo）麵，被紫外線照射到（dào）的光刻膠會發生反應。

此後用特定溶劑洗去被照射/未被（bèi）照射的光刻膠，就實現了電路（lù）圖從掩模到晶片的轉移。

簡單來說，就用紫外線把多層電路圖（tú）雕刻（kè）在晶圓上，而在這過程中就必然要用到（dào）光刻機。目前滿足先進製程的7nm/5nm的光（guāng）刻機采用EUV光刻工藝，而隻有ASML製（zhì）造的光刻機才（cái）可（kě）滿足。

2、UV紫外線與光刻機

前麵我們提到，紫外線負責把線路（lù）圖雕刻到晶圓表麵，而紫外線光源是由激光器負責產生，紫外線光源對芯片製程（chéng）工（gōng）藝具有決定性影響。

伴隨半導體工業節點的（de）不斷提升，光刻機使用的紫外線波長從436nm、365nm的近紫外(NUV)激光提高到246nm、193nm(DUV)激光，DUV光刻機是目前大量應用的光刻機，波（bō）長是193nm，光源是ArF（氟化（huà）氬）準（zhǔn）分子激光器。

從7nm開始Intel、三星和台積電等晶圓代工（gōng）企業開始引入EUV光刻（kè）技術，而使用極（jí）紫（zǐ）外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻機。

你可以這麽（me）理解，全球最大（dà）的晶圓代工廠台積電（diàn）也（yě）隻有從ASML購買EUV光刻機才（cái）能在7nm/5nm製程工藝上完成晶圓的雕刻。

要想知道EUV到底是什麽東西，簡單來說EUV是UV紫外線中波段處於（10nm~100nm）的短波紫外線

本質上，EUV極紫外光跟UV紫外線和光刻機的關係是（shì）一致的。從7nm開始Intel、三星和台積電等晶圓代工（gōng）企業開始引入EUV（波長10 ~ 15 nm，通常為13.5nm）光刻技術，而使用極紫外光（EUV）作為光源的光刻機就是EUV光刻（kè）機（jī）。

你可以這麽理解，如果沒有EUV光刻機晶（jīng）圓代工廠就（jiù）無法生產先（xiān）進製（zhì）程的芯片如7nm或5nm芯片。

TANK007探客手電集紫外線手電筒研發、生產、銷（xiāo）售為一體的手電筒廠家，專注（zhù）於（yú）紫外線手電筒領域（yù）20餘年，是紫外線手電筒（tǒng）行業領軍企業，並成為多（duō）家世界500強企業長期合作夥伴（bàn），值得信賴！

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